技術資源

高壓電源提升檢測產線產能與精度

檢測產線的產能與最終檢測精度高度依賴高壓電源的綜合性能，傳統電源在長時間運行中的參數漂移、響應滯后以及保護誤動作往往成為限制單機產

檢測設備電源國產化及創新應用

半導體檢測設備對高壓電源的可靠性、精度和響應速度要求極高，過去高端檢測平臺幾乎全部依賴進口電源，不僅采購成本高昂，而且在供應鏈安全

高壓電源智能控制優化產線管理

高壓電源的傳統控制方式主要依賴設備本地面板與簡單PLC聯鎖，參數調整分散、運行狀態割裂、異常響應滯后，已難以滿足現代產線對可視化、預

精密穩壓電源助力設備良率提升

在先進制程與高精度鍍膜、刻蝕、檢測等設備中，工藝結果對供電電壓的微小波動極其敏感，哪怕0 1%的瞬態變化都可能導致數十納米的線寬偏差或

高壓電源模塊化布局提升產線效率

半導體與面板產線對高壓電源的可用率要求近乎苛刻，傳統一體式高壓電源一旦出現局部故障往往導致整臺設備停機，維修等待時間動輒數小時甚至

高壓電源提升CMP產線穩定性

CMP產線穩定性直接決定先進邏輯和存儲芯片的最終良率，尤其在多格局、多材料疊層日益復雜的當下，任何一次靜電卡盤吸附異常都可能導致整批

CMP設備電源智能化升級路徑

化學機械拋光設備對電源的要求看似簡單，實則極端苛刻：輸出電壓需在數千伏量級保持長期穩定，紋波系數小于0 01%，同時對負載突變（如晶圓

高壓電源支持CMP自動化改造

CMP設備自動化水平長期落后于光刻、刻蝕等工序，主要瓶頸在于高壓電源與主機之間信息交互深度不足，導致吸附參數調整仍需大量人工干預。高

CMP設備電源國產化落地實踐

近年來，CMP設備高壓電源國產化進程從實驗室驗證快速轉向大規模量產落地，一批完全自主知識產權的高性能電源系統已在多個一線晶圓廠完成整