技術資源

電鏡高壓電源精密控制技術的突破與挑戰

電子顯微鏡（EM）作為納米級觀測的核心工具，其分辨率直接依賴高壓電源的穩定性。高壓電源為電子槍提供加速電壓（通常為幾千伏至幾百千伏）

高頻高壓電源在半導體蝕刻設備中的關鍵設計與應用

一、高頻高壓電源的技術原理高頻高壓電源是蝕刻設備的核心部件，其設計基于高頻開關技術與諧振轉換原理：電能轉換機制：通過功率開關器件（

準分子激光高壓脈沖調制技術：精密能量控制的核心突破

一、技術原理與核心挑戰準分子激光以惰性氣體和鹵素氣體的受激二聚體為增益介質，其躍遷發生在激發態（束縛態）與基態（自由態）之間，屬于

光刻機高壓電源的EMI抑制技術研究

引言光刻機作為半導體制造的核心設備，其高壓電源（通常需提供數千伏電壓及毫安級電流）的穩定性直接影響曝光精度。然而，高壓電源在開關過

電鏡高壓電源小型化趨勢的技術突破與應用展望

一、小型化的技術驅動因素材料創新推動體積縮減 傳統電鏡高壓電源依賴笨重的電磁變壓器和線性穩壓電路，而新型寬禁帶半導體（如氮化鎵、碳

高壓電源動態響應特性在蝕刻工藝中的關鍵作用

一、動態響應特性與蝕刻精度的關聯性在半導體蝕刻工藝中，高壓電源的動態響應特性（即系統對輸入信號變化的實時反饋能力）直接決定了蝕刻輪

高壓電源效率：準分子激光性能突破的關鍵

準分子激光器作為深紫外波段的核心光源，在光刻、精密加工等領域具有不可替代的地位。其性能高度依賴高壓電源系統的效率——電源效率的提升

高壓電源技術在極紫外光刻光源中的核心應用與前沿突破

極紫外（EUV）光刻技術作為半導體制造進入7納米以下制程節點的關鍵支撐，其核心在于高效、穩定的13 5納米波長光源的生成。而實現這一目標的

離子注入機高壓模塊可靠性技術解析

離子注入機作為半導體制造的核心設備，其高壓模塊的性能直接決定了離子束的能量精度、分布均勻性及工藝穩定性。在納米級芯片制造中，高壓模