技術資源

高壓電源動態響應特性在蝕刻工藝中的關鍵作用

一、動態響應特性與蝕刻精度的關聯性在半導體蝕刻工藝中，高壓電源的動態響應特性（即系統對輸入信號變化的實時反饋能力）直接決定了蝕刻輪

高壓電源效率：準分子激光性能突破的關鍵

準分子激光器作為深紫外波段的核心光源，在光刻、精密加工等領域具有不可替代的地位。其性能高度依賴高壓電源系統的效率——電源效率的提升

高壓電源技術在極紫外光刻光源中的核心應用與前沿突破

極紫外（EUV）光刻技術作為半導體制造進入7納米以下制程節點的關鍵支撐，其核心在于高效、穩定的13 5納米波長光源的生成。而實現這一目標的

離子注入機高壓模塊可靠性技術解析

離子注入機作為半導體制造的核心設備，其高壓模塊的性能直接決定了離子束的能量精度、分布均勻性及工藝穩定性。在納米級芯片制造中，高壓模

蝕刻設備高壓電源的設計挑戰

在半導體制造中，等離子體蝕刻是定義納米級器件結構的關鍵工藝，而高壓電源作為蝕刻設備的核心動力源，其設計直接決定蝕刻精度與良率。隨著

準分子激光器高壓脈沖電源技術演進與應用展望

一、技術背景準分子激光器（工作波長范圍157-353 nm）作為深紫外波段的核心光源，其性能直接依賴于高壓脈沖電源的精度與可靠性。傳統電源

光刻機光源高壓驅動技術：精密制造的核心引擎

在半導體制造領域，光刻機是決定芯片制程精度的核心設備，而光源系統作為光刻機的心臟，其性能直接決定了光刻分辨率和芯片集成度。高壓驅動

離子注入高壓電源穩定性分析

在半導體制造、材料改性和生物醫學等領域，離子注入技術是精準摻雜的核心工藝。高壓電源作為離子注入系統的動力心臟，其穩定性直接決定了離

靜電卡盤高壓電源優化研究

靜電卡盤作為半導體制造的核心夾具，其性能直接決定晶圓加工的精度與良率。高壓電源作為靜電卡盤的動力源，需在極端工況（如強電磁干擾、等