技術資源

準分子激光高壓電源電極材料壽命預測的技術邏輯與實踐價值

準分子激光憑借短波長、高能量密度的特性，已成為光刻制造、醫療診療、材料表面改性等領域的核心技術支撐，而高壓電源作為其能量供給核心，

光刻機高壓電源電磁拓撲優化設計

在半導體光刻制程中，光刻機對高壓電源的性能需求呈現高精度-低干擾-高穩定的三重特性。其核心功能是為光刻機光學系統、工件臺驅動模塊提供

離子注入高壓電源多級動態補償網絡的技術特性與應用價值

在半導體先進制程中，離子注入技術是實現精準摻雜的核心工藝，其對摻雜劑量均勻性、雜質深度控制的嚴苛要求，直接依賴于高壓電源的輸出穩定

靜電卡盤高壓電源介質界面陷阱效應抑制的技術應用與實踐

在半導體制造向7nm及以下先進工藝節點演進的過程中，靜電卡盤（ESC）作為晶圓夾持與精準定位的核心組件，其性能穩定性直接決定光刻、刻蝕等

電鏡高壓電源在原子級表面電荷中和中的應用

作為微觀世界表征的核心工具，電子顯微鏡（電鏡）已從微米級分辨率邁入原子級觀測時代，而樣品表面電荷的累積與失衡，成為制約高分辨成像精

曝光機高壓電源噪聲溯源與控制

在精密光刻制造體系中，曝光機作為核心設備，其成像精度直接決定芯片制程的最終良率，而高壓電源（HVPS）作為曝光機光源模塊的能量核心，其

電子束高壓電源模塊化維護策略

電子束技術憑借能量集中、作用精準的特性，已廣泛應用于材料表面改性、食品殺菌消毒、半導體器件制造等領域，而高壓電源作為電子束發生系統

曝光機高壓電源的寬溫域適應性設計與應用價值

在半導體制造及精密電子加工領域，曝光機是實現圖形轉移的核心設備，其工作精度直接決定了產品的線寬與性能。而高壓電源作為曝光機光學系統

電子束高壓電源故障預警系統的技術架構與應用價值

電子束技術在工業輻照、半導體離子注入、材料改性等領域的深度應用，使其核心動力源——電子束高壓電源的穩定運行成為生產連續性與工藝精度