技術資源

離子注入高壓電源的智能動態均壓技術

在半導體制造、光學鍍膜和材料表面改性等領域，離子注入技術依賴高壓電源提供穩定的數十千伏級電場，以精確控制離子束的能量和軌跡。隨著工

靜電卡盤高壓電源多介質層耐壓設計的關鍵技術挑戰與創新方向

在半導體制造、新能源及醫療設備等高端領域，靜電卡盤（Electrostatic Chuck, ESC）是實現高精度工藝的核心部件。其高壓電源系統需在真空

電鏡高壓電源飛秒級脈沖調制技術：突破微觀成像的時空界限

電子顯微鏡（電鏡）作為探索物質微觀結構的核心工具，其分辨率與成像質量高度依賴高壓電源的穩定性和精度。傳統電鏡高壓電源雖能提供穩定的

光刻機高壓電源的超高頻諧振穩壓技術

在半導體制造領域，光刻機作為納米級圖案刻蝕的核心設備，其精度直接決定芯片性能與良品率。光刻機的高壓電源系統需為激光發生器、離子束控

離子注入高壓電源的梯度升壓動態控制技術

離子注入技術作為半導體制造的核心工藝，其精度直接影響器件的電學性能和良率。隨著半導體器件尺寸進入納米級，傳統高壓電源的靜態輸出模式

高壓電源在靜電卡盤應用中的瞬態電弧抑制算法研究

靜電卡盤作為半導體制造、平板顯示等精密設備的核心部件，依賴高壓電源（通常為數千伏）產生靜電場以吸附晶圓。然而，高壓環境下的瞬態電弧

量子化穩壓技術：開啟電鏡高壓電源新紀元

在電子顯微鏡（EM）技術領域，高壓電源的穩定性直接決定了成像質量的上限?，F代透射電鏡（TEM）的分辨率已突破至亞埃級（0 1 nm），而掃描

蝕刻設備高壓電源工藝窗口擴展技術研究

在半導體制造中，等離子體蝕刻是決定微觀結構精度的核心工藝，其工藝窗口（即允許參數波動的范圍）直接影響器件的良率和性能。高壓電源作為

離子注入高壓電源的智能功率分配技術

1 離子注入工藝對高壓電源的核心需求離子注入是半導體制造中的關鍵工藝，通過將高能離子注入晶圓，改變材料的電學特性。該過程要求高壓