技術資源

靜電卡盤高壓電源表面改性對吸附性能的影響機制

引言靜電卡盤（Electrostatic Chuck, ESC）作為半導體制造中的關鍵部件，依賴高壓電源產生的靜電場吸附晶圓。其性能直接影響刻蝕、離子注

電鏡高壓電源超導儲能供電方案：高精度與高穩定性的技術革新

在電子顯微鏡（電鏡）等高端科研設備中，高壓電源的穩定性直接決定了成像質量與數據精度。傳統電源系統受限于響應速度、能量損耗及電壓波動

等離子體蝕刻設備中高壓電源的動態阻抗匹配技術

在半導體制造中，等離子體蝕刻設備的穩定性直接決定晶圓加工的精度與良率。蝕刻工藝依賴高頻高壓電源（通常為13 56MHz 60MHz）激發反應腔體

準分子激光高壓電源脈沖串優化技術及應用

在準分子激光系統中，高壓電源的脈沖串質量直接決定了激光輸出的穩定性、效率及應用精度。傳統高壓電源受限于開關器件的性能，難以同時滿足

靜電卡盤高壓電源多區域獨立控制的技術演進與應用價值

在半導體制造向更高精度、更大晶圓尺寸演進的過程中，靜電卡盤（ESC）作為晶圓固定與溫控的核心裝置，其性能直接影響刻蝕、薄膜沉積等工藝

電鏡高壓電源亞納米級穩定技術

電子顯微鏡（電鏡）的分辨率已突破亞納米級（<0 2納米），成為材料科學、生命科學等領域解析物質原子結構的關鍵工具。這一成就的基石是高壓

高壓電源工藝參數耦合在蝕刻設備中的核心作用

在半導體制造中，等離子體刻蝕是納米級圖形轉移的關鍵工藝，其精度直接決定器件的性能與良率。高壓電源作為等離子體的能量來源，通過精準調

準分子激光高壓電源電極壽命延長的關鍵技術路徑

準分子激光器作為深紫外波段的核心光源，在半導體光刻、醫療消融等領域不可替代。其高壓電源電極在含氟等離子體的高頻放電環境中面臨嚴重腐

光刻機高壓電源故障快速定位技術研究

光刻機作為半導體制造的核心裝備，其高壓電源系統（輸出范圍通常達數萬至數百萬伏特）的穩定性直接影響晶圓曝光精度。該電源長期處于高負載