技術資源

高壓電源納米級紋波抑制技術在電鏡應用中的突破

高壓電源的穩定性直接影響透射電子顯微鏡（TEM）的成像精度。在納米級觀測中，輸出電壓的紋波必須控制在毫伏甚至微伏級別，否則會導致電子

高精度蝕刻設備中高壓電源的動態功率因數校正技術

在半導體制造領域，蝕刻設備的穩定性和能效直接決定工藝精度與生產成本。高壓電源作為蝕刻工藝的核心能源單元，其電能質量直接影響等離子體

準分子激光高壓電源脈沖能量閉環控制技術研究

一、技術挑戰與核心需求準分子激光器（如ArF、KrF）作為深紫外波段的核心光源，在光刻、微納加工等領域需滿足高重頻（kHz級）、窄線寬（E95

光刻機高壓電源諧振能量回收技術：半導體制造的能效革命

引言光刻機作為半導體制造的核心設備，其高壓電源系統為紫外光源（如極紫外光EUV）提供穩定能量。傳統高壓電源在運行中產生大量諧波，不僅

離子注入高壓電源智能故障預警系統設計

在半導體制造工藝中，離子注入機的高壓電源系統需提供數萬至數百萬伏特的穩定電壓，其可靠性直接決定晶圓摻雜質量。然而，高壓電源長期處于

高壓電源工藝自適應技術在蝕刻設備中的創新應用

在半導體制造中，等離子體蝕刻是定義納米級器件的核心工藝，其精度直接影響芯片的性能與良率。高壓電源作為蝕刻設備的能量核心，需在復雜多

準分子激光高壓電源放電穩定性控制關鍵技術

準分子激光器（如ArF、KrF等）作為深紫外波段的核心光源，在半導體光刻、微加工和醫療領域具有不可替代的地位。其性能直接依賴于高壓電源的

光刻機高壓電源輻射噪聲抑制方法

光刻機作為半導體制造的核心設備，其高壓電源的輻射噪聲會干擾精密光學系統和控制電路，導致晶圓曝光缺陷。輻射噪聲主要源于開關電源的高頻

離子注入高壓電源動態電壓補償系統的關鍵技術與應用價值

在半導體制造工藝中，離子注入設備是定義芯片電學特性的核心裝備，其高壓電源（通常輸出達–40 kV、400 W）需維持極高穩定性。然而