技術資源

靜電卡盤高壓電源介質界面優化研究

靜電卡盤（Electrostatic Chuck, ESC）作為半導體制造中的核心部件，其性能依賴于高壓電源與介質界面的協同作用。介質界面作為靜電場傳遞

準分子激光高壓電源重復精度提升方案

準分子激光器作為深紫外波段的核心光源，在光刻、精密醫療及微納加工等領域不可或缺。其性能高度依賴高壓電源的重復精度——即輸出脈沖能量

光刻機高壓電源瞬態恢復特性研究

在半導體制造領域，光刻機的精度直接決定芯片的線寬極限與良率。作為光刻機的動力心臟，高壓電源的瞬態恢復特性（即負載突變后電源恢復到設

離子注入高壓電源多級濾波網絡設計

離子注入技術是半導體制造中的關鍵工藝，其核心設備依賴超高壓直流電源（通常達數百千伏）提供離子加速能量。此類電源的穩定性直接決定注入

靜電卡盤高壓電源電弧檢測算法優化

靜電卡盤作為半導體制造、精密儀器組裝的核心部件，依賴高壓電源產生的靜電場實現工件的非接觸式固定。然而，高壓環境易引發電弧故障，輕則

離子注入高壓電源的自適應脈沖調制技術：精密制造的突破性革新

在半導體制造、材料表面改性及先進醫療設備等領域，離子注入技術是調控材料性能的核心工藝。其核心挑戰在于如何精確控制離子的能量、深度和

高壓電源多參數協同控制在半導體蝕刻設備中的應用研究

引言在半導體制造中，等離子體蝕刻是決定器件精度的核心工藝之一。蝕刻設備的高壓電源系統直接控制等離子體的密度、能量分布及反應活性，其

準分子激光高壓電源氣體純度影響分析

準分子激光器（如ArF、KrF、XeCl等）依靠高壓電源驅動氣體放電，產生高能紫外激光束，廣泛應用于半導體光刻、醫療手術、精密加工等領域。氣

高精度光刻機高壓電源的瞬態諧波消除技術

半導體制造的關鍵挑戰與創新解決方案在極紫外（EUV）光刻技術主導的半導體制造中，高壓電源的瞬態諧波控制直接決定光刻精度與良率。瞬態諧